一家中國公司和一家美國巨頭，在臺灣和上海兩地，歷時近三年，上演了一幕幕錯綜復雜的專利交鋒。法律爭執背后，是市場份額的糾葛和博弈。

　　繼銷售戰、商譽戰、品牌戰之后，法律戰越來越成為市場競爭的主要手段，尤其是在高科技產品領域，以專利戰為代表的法律戰將扮演著越來越重要的角色

　　眼下，上海中微半導體設備有限公司(AMEC，下稱“中微公司”)還在為三年前的一起專利侵權官司勞心費神。

　　中微公司是一家總部位于上海的半導體設備制造企業，算是全球半導體設備行業的后起之秀，與其發生糾紛的則是國際半導體設備制造巨頭———美國泛林半導體設備技術公司(Lam Research，下稱“泛林公司”)。2009年年初，泛林公司以中微公司侵犯其專利為由將中微公司告上臺灣智慧財產法院(臺灣專門審理知識產權的法院)。

　　三年來，臺灣智慧財產法院先后作出兩次判決，結果都對中微公司較為有利。目前該案的三審判決尚未作出(臺灣有三審制)。

　　不過中微公司認為，泛林公司技術人員在證據保全過程中超范圍查看公司涉案設備的內部結構，且通過不當手段獲取了中微公司培訓客戶的絕密技術資料，侵犯了公司的商業秘密，遂將泛林公司及相關涉案人員作為被告起訴至上海市一中院，請求法院判令相關被告停止侵權，銷毀所有含有原告商業秘密的信息及其載體，禁止使用原告的商業秘密，并賠償5000萬元人民幣。目前案件已獲立案。

　　一起由專利侵權引發的案件，從臺灣打到了上海，歷時近三年，仍無停歇跡象。中微公司的此次訴訟經歷還入選了由國家知識產權局、國家工商總局、國家版權局共同主辦的“2011年度全國知識產權保護10大案件”。

　　業內人士表示，這起案件對中國半導體行業，甚至是中國高科技企業都有很大的借鑒意義，中國企業應當學習在面對專利糾紛時，如何在證據保全過程中保護企業的技術秘密、如何掃清與老東家之間商業秘密侵權的陰霾等。

　　從臺灣打到上海的官司

　　事情還要從2009年泛林公司提起對中微公司的訴訟說起。

　　2009年1月，美國泛林研究公司在臺灣向中微公司提起專利侵權訴訟。泛林公司指控中微公司PrimoD-RIE介質刻蝕設備侵害了泛林公司在臺灣的136706號專利(電漿密封環專利)和1266873號專利(聚焦環裝置專利)。

　　隨后，中微公司向臺灣智慧財產法院提起泛林公司這兩項專利無效的抗辯。

　　2009年9月，臺灣智慧財產法院在一審判決中駁回了泛林公司關于電漿密封環專利侵權的訴訟。泛林公司不服，隨即提起了上訴。經過漫長的評議審理，2011年1月，臺灣智慧財產法院駁回了泛林公司的上訴。

　　就在同一個月，臺灣經濟部智慧財產局(TIPO)宣布泛林公司的1266873號專利由于缺乏新穎性和創造性而失效。臺灣智慧財產法院繼而宣布該專利無效，因而無法構成指控中微公司侵權的依據。

　　接連遭遇兩次失敗，泛林公司的霉運似乎并未終結。

　　在案件的審理過程中，應泛林公司的要求，臺灣智慧財產法院作出了專利侵權證據保全的裁定，不過這一裁定又為日后中微公司提起侵犯商業秘密之訴埋下了伏筆。

　　中微公司稱，兩名參與證據保全工作的泛林公司技術人員違反了保密承諾，理由是在隨后的庭審過程中，泛林公司根據這兩名技術人員違規超范圍查看的內容增加了自己的訴訟請求。中微公司認為自己的技術秘密受到了侵犯。

　　“更為重要的是，案件在臺灣的庭審過程中，泛林公司一名技術人員向法庭陳述，自己曾在中國大陸看到過涉案設備，認為其中的內部結構和泛林公司的專利結構相同，構成侵權。”中微公司上海案件的訴訟代理律師李德成介紹說。

　　此外，泛林公司向法庭提交的證據當中，還包括中微公司用于培訓客戶的絕密技術材料，而且美國泛林公司還將這些材料的保密標識、權利人標識遮蓋后向法庭提交。

　　這些證據的出現，讓中微公司認為自己的商業秘密受到了侵犯，提起商業秘密侵權之訴成為了必然。于是乎，一起被訴專利侵權的案件，又引發出了一起侵犯商業秘密的案件。

　　2012年年初，中微公司將美國泛林公司及相關涉案人員作為共同被告起訴至上海市一中院。

　　法治周末記者就該案件采訪了泛林公司代理律師、北京金杜律師事務所律師倪震華。倪震華表示，目前案件正在審理過程中，尚不方便對媒體透露。

　　證據保全侵犯商業秘密

　　官司從臺灣打到上海，證據保全是案件的關鍵。據記者了解，在涉及專利案件的證據保全過程中，為了避免發生另一方的技術秘密泄密，法院一般都要求參與證據保全的相關人員簽訂保密協議。

　　此次泛林公司對中微公司半導體設備進行證據保全工作也不例外。李德成對法治周末記者介紹說，在證據保全過程中，臺灣法院也要求參與保全的全體人員，包括美國泛林公司兩名技術人員作出書面承諾，“保證不超出范圍來查看涉密的設備;不得就所查看的內容向自己所在公司透露;不得針對所查看的內容進行拍攝或者記錄草圖”等。

　　不過，中微公司認為泛林公司的兩名技術人員在查看過程中違反了上述承諾，違規超范圍查看了涉案的刻蝕設備，侵犯了公司的技術秘密。

　　記者就該技術秘密泄露一事聯系中微公司創始人兼首席執行官尹志堯，被告知由于公司目前正在同泛林公司談和解，所以不方便接受采訪。

　　這起案件讓從事知識產權業務的李德成不禁感慨，在專利侵權案件的證據保全過程中，如何采取防范措施防止技術泄密顯得尤為重要。

　　李德成表示，在美國，如果參與證據保全的工作人員超范圍獲取他人商業秘密要承擔非常嚴重的法律責任，而我國大陸和臺灣地區的法律對此則沒有任何懲罰性規定。

　　“這起案件給業界有很大的啟示：一方面，要進一步完善我國的知識產權立法;另一方面，在法律尚不完善的情況下，在專利侵權的證據保全過程中，降低泄密風險顯得尤為關鍵。”李德成認為，目前較為現實的選擇是，盡可能地避免讓對方技術人員參與其中，而是讓獨立的第三方專家來參與，并與之簽訂保密協議。

　　“證據保全過程中并不必然導致商業秘密的泄露。”中國社會科學院知識產權研究中心副主任李順德則有著不同的觀點，“一方在進行證據保全時接觸到了涉案的產品或者設備，并不意味商業秘密就此泄露。商業秘密須具有非公知性、價值性、保密性等特點，對此，作為被取證一方必須進行舉證。此外，在采取證據保全時，如果被取證一方認為涉案設備涉及公司的商業秘密，應當事先向法院聲明。”

　　此外，李順德還特別強調，如果一方是通過非法手段獲得被取證方的絕密技術資料的，就涉嫌構成對被取證方商業秘密的侵害了。

　　專利已成商業競爭策略

　　憑借強大的技術背景團隊和幕后包括高盛、三星在內的國際資本的推動，中微公司自2004年成立后，就以高速的成長引起了業界的關注。

　　資料顯示，在中微公司之前，全球能夠提供等離子刻蝕機和化學薄膜沉積設備的企業共有四家，其中三家是位于美國硅谷的應用材料公司、泛林公司和諾法公司(NVLS)，另外一家是位于日本的東京電子(TEL)。

　　2004年之后，中微公司開始在全球開始攻城略地，這也使其成為國外半導體行業巨頭的進攻目標，中微公司同這些巨頭之間的專利訴訟也逐漸多了起來。

　　中國半導體行業協會一位林姓負責人表示，半導體設備制造領域，尤其是刻蝕設備等半導體的關鍵設備制造領域，一直被泛林、美國應用材料公司等幾家國際巨頭所壟斷，憑借市場壟斷地位，他們掌握了產品的定價權，并以此獲取超額回報，而中國企業快速的崛起無疑給這些巨頭的壟斷優勢帶來了挑戰，這是專利戰爆發的直接原因。

　　“同等精度下，國產設備較國外設備價格低20%以上。”該負責人對法治周末記者說，“當下全球經濟增長放緩、市場蛋糕愈發減少的背景下，市場主體間的競爭勢必更加慘烈。此時，為了獲取競爭優勢，專利就派上了大用場。”

　　對此，多次被卷入專利訴訟中的中微公司創始人、首席執行官尹志堯更是深有體會。尹志堯此前曾對媒體感慨：“現行的專利制度下，專利并不一定代表最新的技術，也不一定最終轉化為產品，很多情況下是作為大公司打擊小公司的一種‘戰略儲備’，若深究之，其中不少專利都是無效的。”

　　從2007年至今，中微公司先后被幾家行業巨頭以專利侵權或者侵犯商業秘密為由告上法庭，不過最終的結果，不是和解就是中微勝訴。不過即便如此，尹志堯也表示公司五年來花在訴訟上的費用已超過了2000萬美元。

　　“目前專利訴訟不僅成為了一些行業巨頭打壓同自己實力相當的競爭對手的砝碼，而且還成為大公司牽制一些初創公司的重要策略了。一旦打起專利戰，對初創公司而言，不僅意味著巨額的訴訟費，還需要技術部門配合法務部門的工作，而且還會牽涉公司高層的精力。”資深專利代理人趙劍飛對法治周末記者說。

　　其實，專利訴訟不光是在半導體設備行業常見，在很多高科技行業，諸如智能手機領域，像蘋果、諾基亞、谷歌Android系統幾大陣營間的專利戰更是打得不可開交，這些巨頭一方面通過技術創新不斷開疆拓土;另一方面，也頻頻動用專利武器，以求最大限度地阻擊和牽制競爭對手。甚至有人抱怨：“專利訴訟正在干擾正常的創新活動。”

　　不過，李順德則認為，不是所有運用專利訴訟參與市場競爭的企業都是在濫用這種手段：“就專利制度的設計初衷而言，就是允許權利人運用專利來維護自身的合法權益，包括利用專利從事競爭，尤其是對擁有經過實質性審查的發明專利的企業而言。”

　　老東家的秘密亦須保守

　　上述林姓負責人告訴法治周末記者，半導體行業，尤其是半導體關鍵設備制造領域儼然是一個技術密集型的行業，技術壁壘非常高。

　　作為從事高技術壁壘行業的中微公司，不可避免要逾越技術障礙。據法治周末記者了解，中微公司是由海歸創辦的高新技術企業，其中有數十人先前都在美國應用材料公司、泛林公司等行業巨頭供職過，有非常豐富的從業經驗。

　　不過這樣的團隊構成，也容易讓當初的東家擔心，技術秘密是否由此被帶入中國，被帶入中微公司?

　　其實，最先和中微公司發生沖突的企業是美國應用材料公司(AMAT)，它就是以此來起訴中微公司的。

　　尹志堯自己就曾擔任過美國應用材料公司的副總裁，2004年回國創辦了中微公司，此舉顯然惹惱了老東家。

　　2007年10月，美國應用材料公司向美國加州法院提起訴訟，指控目前任職于中微公司的尹志堯等4名前雇員，使用其商業機密開發設備，要求停止侵權并賠償。此案最終以和解結案。

　　對此尹志堯曾表示，在中微公司，除了他本人，所有海歸雇員在加入公司前，“都必須簽訂承諾書，保證沒有攜帶任何前公司的技術秘密，一旦發現違規，由員工個人承擔全部法律責任”。

　　有業內人士指出，中微公司此舉可以杜絕自己在知識產權問題上潛在的“硬傷”，也為最終達成和解奠定了良好的基礎。

　　不過李順德則對法治周末記者表示，這種入職前承諾其實并不能真正解決問題：“一般而言，擔任過一家公司的高層管理人員，一般都掌握很多有關這家公司的商業秘密，因此法律一般會對公司的高級管理人員、高級技術人員和其他負有保密義務的人員規定有不超過兩年的競業限制期限。當然作為公司要給予相應的補償。”

　　然而，即便過了兩年的競業限制期限，這也并不意味著相關人員不再對老東家的商業秘密負有保密義務。“只要原公司的商業秘密仍具有非公知性、價值性、保密性的特點，作為前雇員就不得向外披露，或者使用該商業秘密。一旦有所違背，對原公司造成損失，原公司舉證是比較容易的。”李順德說。

　　刻蝕設備

　　本案的焦點“刻蝕設備”是芯片集成電路制造過程中一種非常重要的微觀加工設備。微處理器(CPU)、存儲設備(DRAM)和各種邏輯電路的制造，都需運用到刻蝕設備。

　　長期以來，由于技術門檻高，世界半導體裝備制造的高端關鍵設備被國外幾家大公司所壟斷，特別是超高精度的刻蝕設備。掌握了刻蝕設備的制造專利，就等于控制了整個芯片集成電路制造業的前端。

　　中微公司之前，全球能夠提供等離子刻蝕機和另外一項半導體制造關鍵設備的企業共有四家，其中三家位于硅谷，分別是應用材料、泛林公司(LAM)和諾法公司(NVLS)，另外一家東京電子(TEL)位于日本。

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